https://doi.org/10.15255/KUI.2014.012
Objavljen: Kem. Ind. 64 (9-10) (2015) 457−466
Referentni broj rada: KUI-12/2014
Tip rada: Izvorni znanstveni rad
Preuzmi rad:  PDF

Optimizacija parametara taloženja za premaze α-Al2O3 tehnikom plazme dvostrukog sjaja

Y. B. Lin, Y. H. Shen, T. F. Chen i J. Tao

Sažetak

Za dobivanje gustih i debelih premaza α-Al₂O₃ na nehrđajućem čeliku 316 L pri niskoj temperaturi od 580 °C parametri za pripravu premaza α-Al₂O₃ optimirani su tehnikom plazme dvostrukog sjaja. Udaljenost između izvora elektrode i supstrata, radni tlak, napon izvorne elektrode i napon elektrode radnog komada dobiveni su metodom ortogonalnog niza L9. Debljina, mikrostruktura, kemijski sastav i fazne komponente pršteći pohranjenih premaza Al/α-Al₂O₃ analizirani su pomoću 3-D beskontaktne površinske analize, skenirajućom elektronskom mikroskopijom opremljenom spektrometrijom disperzije energije rendgenskog zračenja i difrakcijom kuta sjaja rendgenskog zračenja. Rezultati su pokazali da usporedna udaljenost između izvora elektrode i supstrata ima dominantnu ulogu u određivanju debljine filmova. Premazi pripravljeni pri optimalnim uvjetima pokazali su vrlo gustu, ujednačenu i kompaktnu mikrostrukturu bez pukotina i oštećenja. Utvrđeno je da je na granici između premaza i supstrata formiran željezov aluminid. Debljina premaza je pri stopi taloženja od ~64,4 nm min⁻¹ dosegla oko 11,6 μm. Ako je protok kisika 2 sccm, oksidirani premazi s najmanjom poroznošću od oko 0,13 % imaju relativni udjel α-Al₂O₃ od oko 66,5 %.

Ovo djelo je dano na korištenje pod licencom Creative Commons Imenovanje 4.0 međunarodna

Ključne riječi

tehnika plazme dvostrukog sjaja, premazi α-Al2O3, niska temperatura, optimizacija